
2025-2031年中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場現(xiàn)狀調(diào)查及發(fā)展?jié)摿ρ信袌蟾?/h1> 發(fā)布時間:2025-06-17 10:02:58
《2025-2031年中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場現(xiàn)狀調(diào)查及發(fā)展?jié)摿ρ信袌蟾妗饭彩徽拢蚣爸袊鳦MP設(shè)備企業(yè)發(fā)展及業(yè)務(wù)布局案例研究,中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場前景預(yù)測及發(fā)展趨勢預(yù)判,中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略及發(fā)展建議等內(nèi)容。
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報告導(dǎo)讀:
半導(dǎo)體CMP設(shè)備作為晶圓表面平坦化的核心裝備,對集成電路制造至關(guān)重要,其全球市場高度集中于美國應(yīng)用材料和日本荏原,技術(shù)壁壘極高。2024年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模達(dá)1171億美元,CMP設(shè)備市場約32.5億美元,受2納米等先進制程及存儲器堆疊技術(shù)升級驅(qū)動持續(xù)增長。中國市場在政策扶持與國產(chǎn)替代戰(zhàn)略推動下,實現(xiàn)跨越式發(fā)展,華海清科等企業(yè)突破12英寸設(shè)備技術(shù)封鎖,2024年國產(chǎn)設(shè)備全球市場份額躍升至30%,國內(nèi)市占率超50%,28納米及以上制程實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn),14納米設(shè)備驗證進展超預(yù)期。盡管進口高端設(shè)備仍占主導(dǎo),但2024年進口量同比下降而出口激增,顯示國產(chǎn)替代成效顯著。競爭格局呈現(xiàn)“國際壟斷突破、本土梯隊分化”特征,華海清科、盛美上海等企業(yè)分別在先進制程和先進封裝領(lǐng)域形成優(yōu)勢。未來,行業(yè)將加速向技術(shù)高端化、國產(chǎn)替代深化及全球化布局邁進,頭部企業(yè)持續(xù)突破14-7納米工藝,2025年高端市場國產(chǎn)化率有望突破50%,同時依托性價比優(yōu)勢拓展國際市場,并通過產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同構(gòu)建安全可控的供應(yīng)鏈體系,推動行業(yè)向技術(shù)、韌性與全球化為核心的新階段轉(zhuǎn)型。
基于此,依托智研咨詢旗下半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)研究團隊深厚的市場洞察力,并結(jié)合多年調(diào)研數(shù)據(jù)與一線實戰(zhàn)需求,智研咨詢推出《2025-2031年中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場現(xiàn)狀調(diào)查及發(fā)展?jié)摿ρ信袌蟾妗?。本報告立足半?dǎo)體CMP設(shè)備新視角,聚焦行業(yè)核心議題——變化趨勢(怎么變)、用戶需求(要什么)、投放選擇(投向哪)、運營方法(如何投)及實踐案例(看一看),期待攜手行業(yè)伙伴,共謀行業(yè)發(fā)展新格局、新機遇,推動半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展。
觀點搶先知:
行業(yè)概述:半導(dǎo)體CMP(化學(xué)機械拋光)設(shè)備是一種用于晶圓表面全局平坦化的關(guān)鍵工藝設(shè)備,通過化學(xué)腐蝕與機械研磨的協(xié)同作用,實現(xiàn)納米級超高精度拋光(粗糙度<1nm)。該設(shè)備是先進集成電路制造前道工序及先進封裝環(huán)節(jié)的核心裝備,直接決定晶圓表面平整度與光刻套刻精度。
全球市場:2024年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模達(dá)1171億美元,同比增長10.2%。作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié),CMP設(shè)備市場在多重技術(shù)升級的推動下保持強勁增長。一方面,2納米等先進制程工藝對超低壓力拋光技術(shù)提出更高要求;另一方面,存儲器堆疊層數(shù)突破200層大關(guān)帶來新的工藝挑戰(zhàn)。隨著臺積電、英特爾等芯片巨頭加速2nm工藝的研發(fā)和量產(chǎn)準(zhǔn)備,相關(guān)設(shè)備采購需求持續(xù)攀升。2024年行業(yè)市場規(guī)模約32.5億美元,同比增長6.9%。
中國市場:近年來,在國家政策大力扶持和國產(chǎn)替代戰(zhàn)略的雙重推動下,中國CMP設(shè)備行業(yè)實現(xiàn)跨越式發(fā)展,國產(chǎn)化進程顯著加速。以行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)華海清科為代表,通過持續(xù)自主創(chuàng)新和技術(shù)攻關(guān),成功突破國際技術(shù)封鎖,率先實現(xiàn)12英寸CMP設(shè)備的規(guī)?;逃?。2024年,國產(chǎn)CMP設(shè)備全球市場份額躍升至30%,本土采購占比實現(xiàn)質(zhì)的飛躍。目前,華海清科等龍頭企業(yè)已占據(jù)國內(nèi)12英寸CMP設(shè)備市場超50%份額,產(chǎn)品穩(wěn)定供貨中芯國際、長江存儲等頭部晶圓廠。在技術(shù)層面,28納米及以上成熟制程設(shè)備實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn),14納米設(shè)備聯(lián)合調(diào)試進展超出預(yù)期,部分關(guān)鍵性能指標(biāo)已達(dá)到國際領(lǐng)先水平。2024年中國大陸地區(qū)的CMP設(shè)備市場規(guī)模約61.3億元,同比增長13.5%,行業(yè)發(fā)展勢頭強勁。
進出口情況:從進出口看,盡管中國大陸CMP設(shè)備市場規(guī)模持續(xù)增長,但高端設(shè)備仍主要依賴進口。中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)進出口呈現(xiàn)“進口主導(dǎo)、出口起步”的鮮明格局。海關(guān)數(shù)據(jù)顯示:2020-2024年,進口量穩(wěn)定在371-465臺/年,進口金額從21.66億元攀升至47.47億元,年均增長21.7%,凸顯國內(nèi)對高端CMP設(shè)備的強勁需求;同期出口量在16-52臺間波動,出口金額雖從0.15億元增至1.66億元,但規(guī)模仍不足進口的3.5%。值得關(guān)注的是,2024年進口量同比下降10.1%而出口量激增225%,2025年1-5月進口金額同比提升15%,表明國產(chǎn)替代已顯成效,行業(yè)正從進口依賴向技術(shù)輸出加速轉(zhuǎn)型,但高端設(shè)備自主化仍是破局關(guān)鍵。
競爭格局:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)呈現(xiàn)“國際壟斷突破、本土梯隊分化”的競爭格局:全球市場由美國應(yīng)用材料和日本荏原壟斷,尤其在14nm以下先進制程領(lǐng)域形成絕對壁壘。國內(nèi)廠商中,華海清科作為龍頭企業(yè)已實現(xiàn)12英寸CMP設(shè)備國產(chǎn)化突破,2024年國內(nèi)市占率達(dá)35%,其Universal-H300機型已進入中芯國際14nm產(chǎn)線,并開始5nm工藝驗證。盛美上海憑借無應(yīng)力拋光技術(shù)降低耗材成本50%,專注先進封裝市場;宇環(huán)數(shù)控則深耕SiC/GaN等第三代半導(dǎo)體拋光設(shè)備。目前國產(chǎn)化率已從2017年的3%提升至2024年的50%,但高端設(shè)備及核心零部件(如拋光墊、檢測系統(tǒng))仍依賴進口,形成“低端替代、高端突破”的競爭格局。
發(fā)展趨勢:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)正加速向技術(shù)高端化、國產(chǎn)替代深化及全球化布局邁進。國內(nèi)企業(yè)持續(xù)突破先進制程瓶頸,華海清科等頭部企業(yè)已實現(xiàn)28nm工藝量產(chǎn),并推進14-7nm工藝研發(fā),滿足AI、HPC等高增長市場需求。在政策與資本雙輪驅(qū)動下,國產(chǎn)替代進程顯著加速,2025年國產(chǎn)設(shè)備在高端市場占有率有望突破50%,同時依托性價比優(yōu)勢和本地化服務(wù),逐步滲透東南亞、中東等國際市場。此外,產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同強化,與材料企業(yè)合作構(gòu)建安全可控的供應(yīng)鏈體系,推動行業(yè)向技術(shù)創(chuàng)新能力、供應(yīng)鏈韌性和全球化布局為核心的新階段轉(zhuǎn)型。
報告相關(guān)內(nèi)容節(jié)選:
【特別說明】
1)內(nèi)容概況部分為我司關(guān)于該研究報告核心要素的提煉與展現(xiàn),內(nèi)容概況中存在數(shù)據(jù)更新不及時情況,最終出具的報告數(shù)據(jù)以年度為單位監(jiān)測更新。
2)報告最終交付版本與內(nèi)容概況在展示形式上存在一定差異,但最終交付版完整、全面的涵蓋了內(nèi)容概況的相關(guān)要素。報告將以PDF格式提供。
第1章半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)綜述及數(shù)據(jù)來源說明
1.1 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)界定
1.1.1 CMP即Chemical Mechanical Polishing,化學(xué)機械拋光
1.1.2 CMP化學(xué)機械拋光在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的重要性
1.1.3 半導(dǎo)體CMP設(shè)備界定
1.1.4 《國民經(jīng)濟行業(yè)分類與代碼》中半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)歸屬
1.2 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)分類
1.3 半導(dǎo)體CMP設(shè)備專業(yè)術(shù)語說明
1.4 本報告研究范圍界定說明
1.5 本報告數(shù)據(jù)來源及統(tǒng)計標(biāo)準(zhǔn)說明
1.5.1 本報告權(quán)威數(shù)據(jù)來源
1.5.2 本報告研究方法及統(tǒng)計標(biāo)準(zhǔn)說明
第2章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)宏觀環(huán)境分析(PEST)
2.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)政策(Policy)環(huán)境分析
2.1.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)監(jiān)管體系及機構(gòu)介紹
(1)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)主管部門
(2)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)自律組織
2.1.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)現(xiàn)狀
(1)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)匯總
(2)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備重點標(biāo)準(zhǔn)解讀
2.1.3 國家層面半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)政策規(guī)劃匯總及解讀
(1)國家層面半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)政策匯總及解讀
(2)國家層面半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)規(guī)劃匯總及解讀
2.1.4 31省市半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)政策規(guī)劃匯總及解讀
(1)31省市半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)政策規(guī)劃匯總
(2)31省市半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展目標(biāo)解讀
2.1.5 國家重點規(guī)劃/政策對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展的影響
2.1.6 政策環(huán)境對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)
2.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)經(jīng)濟(Economy)環(huán)境分析
2.2.1 中國宏觀經(jīng)濟發(fā)展現(xiàn)狀
2.2.2 中國宏觀經(jīng)濟發(fā)展展望
2.2.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展與宏觀經(jīng)濟相關(guān)性分析
2.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)社會(Society)環(huán)境分析
2.3.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)社會環(huán)境分析
2.3.2 社會環(huán)境對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)
2.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)技術(shù)(Technology)環(huán)境分析
2.4.1 半導(dǎo)體CMP設(shè)備工藝/技術(shù)流程圖解
2.4.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)分析
2.4.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)科研投入狀況
2.4.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)科研創(chuàng)新成果
(1)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)專利申請
(2)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)專利公開
(3)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)熱門申請人
(4)中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)熱門技術(shù)
2.4.5 技術(shù)環(huán)境對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)
第3章全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)研及市場趨勢洞察
3.1 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展歷程介紹
3.2 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境分析
3.3 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
3.4 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模體量及趨勢前景預(yù)判
3.4.1 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模體量
3.4.2 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場前景預(yù)測
3.4.3 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢預(yù)判
3.5 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)區(qū)域發(fā)展格局及重點區(qū)域市場研究
3.6 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場競爭格局分析
3.7 全球半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展經(jīng)驗借鑒
第4章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場供需狀況及發(fā)展痛點分析
4.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展歷程
4.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)對外貿(mào)易狀況
4.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場主體類型及入場方式
4.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場主體數(shù)量
4.5 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場供給狀況
4.6 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場需求狀況
4.7 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備供需平衡狀態(tài)及行情走勢
4.8 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模體量測算
4.9 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場發(fā)展痛點分析
第5章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場競爭狀況及融資并購分析
5.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場競爭布局狀況
5.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場競爭格局分析
5.2.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)企業(yè)競爭集群分布
5.2.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)企業(yè)競爭格局分析
5.2.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場集中度分析
5.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)國產(chǎn)替代布局與發(fā)展現(xiàn)狀
5.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)波特五力模型分析
5.4.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)供應(yīng)商的議價能力
5.4.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)消費者的議價能力
5.4.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)新進入者威脅
5.4.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)替代品威脅
5.4.5 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)現(xiàn)有企業(yè)競爭
5.4.6 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)競爭狀態(tài)總結(jié)
5.5 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投融資、兼并與重組狀況
第6章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈全景及配套產(chǎn)業(yè)發(fā)展
6.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備產(chǎn)業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈圖譜分析
6.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備產(chǎn)業(yè)價值屬性(價值鏈)分析
6.3 中國CMP設(shè)備上游原材料市場分析
6.3.1 鋁合金材料市場分析
6.3.2 非金屬材料市場分析
6.4 中國CMP設(shè)備專用零部件供應(yīng)市場分析
6.4.1 CMP設(shè)備專用零部件概述
6.4.2 機械加工件供應(yīng)市場分析
6.4.3 機械標(biāo)準(zhǔn)件供應(yīng)市場分析
6.4.4 液路元件供應(yīng)市場分析
6.4.5 電氣元件供應(yīng)市場分析
6.4.6 氣動元件供應(yīng)市場分析
6.5 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備關(guān)鍵功能模塊/系統(tǒng)市場分析
6.5.1 半導(dǎo)體CMP設(shè)備關(guān)鍵功能模塊/系統(tǒng)概述
6.5.2 CMP設(shè)備先進拋光功能模塊
6.5.3 CMP設(shè)備終點檢測功能模塊
6.5.4 CMP設(shè)備超潔凈清洗模塊市場分析
6.5.5 CMP設(shè)備精準(zhǔn)傳送系統(tǒng)
6.6 中國CMP設(shè)備耗材市場分析
6.6.1 CMP設(shè)備耗材概述
6.6.2 CMP拋光液市場分析
6.6.3 CMP拋光墊市場分析
6.7 配套產(chǎn)業(yè)布局對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)
第7章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)細(xì)分產(chǎn)品市場發(fā)展?fàn)顩r
7.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)細(xì)分產(chǎn)品市場結(jié)構(gòu)
7.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備細(xì)分市場分析:8英寸CMP設(shè)備
7.2.1 8英寸CMP設(shè)備市場概述
7.2.2 8英寸CMP設(shè)備市場發(fā)展現(xiàn)狀
7.2.3 8英寸CMP設(shè)備市場競爭格局
7.2.4 8英寸CMP設(shè)備發(fā)展趨勢前景
7.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備細(xì)分市場分析:12英寸CMP設(shè)備
7.3.1 12英寸CMP設(shè)備市場概述
7.3.2 12英寸CMP設(shè)備市場發(fā)展現(xiàn)狀
7.3.3 12英寸CMP設(shè)備市場競爭格局
7.3.4 12英寸CMP設(shè)備發(fā)展趨勢前景
7.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)細(xì)分市場戰(zhàn)略地位分析
第8章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)細(xì)分應(yīng)用市場需求狀況
8.1 CMP在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用領(lǐng)域分布
8.1.1 CMP是芯片制程中的關(guān)鍵工藝
8.1.2 晶圓前道工藝流程
8.1.3 硅片制造工藝流程
8.1.4 晶圓后道先進封裝
8.2 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢前景分析
8.2.1 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述
8.2.2 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
8.2.3 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)趨勢前景
8.3 中國集成電路(IC)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.3.1 中國集成電路(IC)產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
8.3.2 中國集成電路(IC)產(chǎn)業(yè)趨勢前景
8.3.3 集成電路(IC)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用概述
8.3.4 中國集成電路(IC)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用現(xiàn)狀
8.3.5 中國集成電路(IC)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.4 中國半導(dǎo)體分立器件(D)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.4.1 中國半導(dǎo)體分立器件(D)市場發(fā)展現(xiàn)狀
8.4.2 中國半導(dǎo)體分立器件(D)市場趨勢前景
8.4.3 半導(dǎo)體分立器件(D)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用概述
8.4.4 中國半導(dǎo)體分立器件(D)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用現(xiàn)狀
8.4.5 中國半導(dǎo)體分立器件(D)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.5 中國傳感器(S)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.5.1 中國傳感器(S)市場發(fā)展現(xiàn)狀
8.5.2 中國傳感器(S)市場趨勢前景
8.5.3 傳感器(S)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用概述
8.5.4 中國傳感器(S)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用現(xiàn)狀
8.5.5 中國傳感器(S)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.6 中國光電器件(O)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.6.1 中國光電器件(O)市場發(fā)展現(xiàn)狀
8.6.2 中國光電器件(O)市場趨勢前景
8.6.3 光電器件(O)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用概述
8.6.4 中國光電器件(O)領(lǐng)域CMP設(shè)備應(yīng)用現(xiàn)狀
8.6.5 中國光電器件(O)領(lǐng)域CMP設(shè)備市場潛力
8.7 中國CMP設(shè)備行業(yè)細(xì)分應(yīng)用市場戰(zhàn)略地位分析
第9章全球及中國CMP設(shè)備企業(yè)發(fā)展及業(yè)務(wù)布局案例研究
9.1 全球及中國CMP設(shè)備企業(yè)發(fā)展及業(yè)務(wù)布局梳理與對比
9.2 全球CMP設(shè)備企業(yè)發(fā)展及業(yè)務(wù)布局案例分析
9.2.1 美國應(yīng)用材料(AMAT)
(1)企業(yè)簡介
(2)企業(yè)經(jīng)營狀況及競爭力分析
9.2.2 日本荏原(EBARA)
(1)企業(yè)簡介
(2)企業(yè)經(jīng)營狀況及競爭力分析
9.3 中國CMP設(shè)備企業(yè)發(fā)展及業(yè)務(wù)布局案例分析
9.3.1 華海清科股份有限公司
(1)企業(yè)發(fā)展基本情況
(2)企業(yè)主要產(chǎn)品分析
(3)企業(yè)經(jīng)營狀況分析
(4)企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析
9.3.2 北京爍科精微電子裝備有限公司
(1)企業(yè)發(fā)展基本情況
(2)企業(yè)主要產(chǎn)品分析
(3)企業(yè)經(jīng)營狀況分析
(4)企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析
9.3.3 杭州眾硅電子科技有限公司
(1)企業(yè)發(fā)展基本情況
(2)企業(yè)主要產(chǎn)品分析
(3)企業(yè)經(jīng)營狀況分析
(4)企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析
9.3.4 天通控股股份有限公司
(1)企業(yè)發(fā)展基本情況
(2)企業(yè)主要產(chǎn)品分析
(3)企業(yè)經(jīng)營狀況分析
(4)企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析
9.3.5 北京特思迪半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
(1)企業(yè)發(fā)展基本情況
(2)企業(yè)主要產(chǎn)品分析
(3)企業(yè)經(jīng)營狀況分析
(4)企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析
第10章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)市場前景預(yù)測及發(fā)展趨勢預(yù)判
10.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)SWOT分析
10.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu估
10.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景預(yù)測
10.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢預(yù)判
第11章中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略及發(fā)展建議
11.1 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)進入與退出壁壘
11.1.1 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)進入壁壘分析
11.1.2 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)退出壁壘分析
11.2 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險預(yù)警
11.3 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投資價值評估
11.4 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投資機會分析
11.4.1 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈薄弱環(huán)節(jié)投資機會
11.4.2 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域投資機會
11.4.3 半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)區(qū)域市場投資機會
11.4.4 半導(dǎo)體CMP設(shè)備產(chǎn)業(yè)空白點投資機會
11.5 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)投資策略與建議
11.6 中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)可持續(xù)發(fā)展建議
圖表目錄
圖表1:半導(dǎo)體CMP設(shè)備的界定
圖表2:《國民經(jīng)濟行業(yè)分類與代碼》中半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)歸屬
圖表3:半導(dǎo)體CMP設(shè)備類型
圖表4:半導(dǎo)體CMP設(shè)備專業(yè)術(shù)語說明
圖表5:本報告研究范圍界定
圖表6:本報告權(quán)威數(shù)據(jù)資料來源匯總
圖表7:本報告的主要研究方法及統(tǒng)計標(biāo)準(zhǔn)說明
圖表8:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)監(jiān)管體系
圖表9:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)主管部門
圖表10:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)自律組織
圖表11:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)
圖表12:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)匯總
圖表13:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備即將實施標(biāo)準(zhǔn)
圖表14:中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備重點標(biāo)準(zhǔn)解讀
圖表15:截至2024年中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展政策匯總
圖表16:截至2024年中國半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展規(guī)劃匯總
圖表17:31省市半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)政策規(guī)劃匯總
圖表18:31省市半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展目標(biāo)解讀
圖表19:國家“十四五”規(guī)劃對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)的影響分析
圖表20:政策環(huán)境對半導(dǎo)體CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)
更多圖表見正文……
◆ 本報告分析師具有專業(yè)研究能力,報告中相關(guān)行業(yè)數(shù)據(jù)及市場預(yù)測主要為公司研究員采用桌面研究、業(yè)界訪談、市場調(diào)查及其他研究方法,部分文字和數(shù)據(jù)采集于公開信息,并且結(jié)合智研咨詢監(jiān)測產(chǎn)品數(shù)據(jù),通過智研統(tǒng)計預(yù)測模型估算獲得;企業(yè)數(shù)據(jù)主要為官方渠道以及訪談獲得,智研咨詢對該等信息的準(zhǔn)確性、完整性和可靠性做最大努力的追求,受研究方法和數(shù)據(jù)獲取資源的限制,本報告只提供給用戶作為市場參考資料,本公司對該報告的數(shù)據(jù)和觀點不承擔(dān)法律責(zé)任。
◆ 本報告所涉及的觀點或信息僅供參考,不構(gòu)成任何證券或基金投資建議。本報告僅在相關(guān)法律許可的情況下發(fā)放,并僅為提供信息而發(fā)放,概不構(gòu)成任何廣告或證券研究報告。本報告數(shù)據(jù)均來自合法合規(guī)渠道,觀點產(chǎn)出及數(shù)據(jù)分析基于分析師對行業(yè)的客觀理解,本報告不受任何第三方授意或影響。
◆ 本報告所載的資料、意見及推測僅反映智研咨詢于發(fā)布本報告當(dāng)日的判斷,過往報告中的描述不應(yīng)作為日后的表現(xiàn)依據(jù)。在不同時期,智研咨詢可發(fā)表與本報告所載資料、意見及推測不一致的報告或文章。智研咨詢均不保證本報告所含信息保持在最新狀態(tài)。同時,智研咨詢對本報告所含信息可在不發(fā)出通知的情形下做出修改,讀者應(yīng)當(dāng)自行關(guān)注相應(yīng)的更新或修改。任何機構(gòu)或個人應(yīng)對其利用本報告的數(shù)據(jù)、分析、研究、部分或者全部內(nèi)容所進行的一切活動負(fù)責(zé)并承擔(dān)該等活動所導(dǎo)致的任何損失或傷害。


01
智研咨詢成立于2008年,具有17年產(chǎn)業(yè)咨詢經(jīng)驗

02
智研咨詢總部位于北京,具有得天獨厚的專家資源和區(qū)位優(yōu)勢

03
智研咨詢目前累計服務(wù)客戶上萬家,客戶覆蓋全球,得到客戶一致好評

04
智研咨詢不僅僅提供精品行研報告,還提供產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、IPO咨詢、行業(yè)調(diào)研等全案產(chǎn)業(yè)咨詢服務(wù)

05
智研咨詢精益求精地完善研究方法,用專業(yè)和科學(xué)的研究模型和調(diào)研方法,不斷追求數(shù)據(jù)和觀點的客觀準(zhǔn)確

06
智研咨詢不定期提供各觀點文章、行業(yè)簡報、監(jiān)測報告等免費資源,踐行用信息驅(qū)動產(chǎn)業(yè)發(fā)展的公司使命

07
智研咨詢建立了自有的數(shù)據(jù)庫資源和知識庫

08
智研咨詢觀點和數(shù)據(jù)被媒體、機構(gòu)、券商廣泛引用和轉(zhuǎn)載,具有廣泛的品牌知名度

品質(zhì)保證
智研咨詢是行業(yè)研究咨詢服務(wù)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)品牌,公司擁有強大的智囊顧問團,與國內(nèi)數(shù)百家咨詢機構(gòu),行業(yè)協(xié)會建立長期合作關(guān)系,專業(yè)的團隊和資源,保證了我們報告的專業(yè)性。

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